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UV減粘膜又名UV失膠膠帶、UV減粘膠帶，UV膜是特殊的PO涂上基膜UV高粘度膠水。它表現(xiàn)出高粘度(12000g~2000g）但紫外線照射后，粘接力急劇下降(5g~10g）由特殊膠水制成的單面膠帶，甚*更低或無附著力。
PO基膜是日本采用流延法制成的一種新型基膜，是一種通過多種工藝制成的未拉伸聚烯烴共聚物膜?；げ牧先彳洠c市場傳統(tǒng)相同PE膜及EVA膜具有突出的拉伸強(qiáng)度和抗撕裂強(qiáng)度 采用納米技術(shù)，多工藝，多結(jié)構(gòu)。其表面防水，另一表面防靜電暈處理。無沉淀物，不易吸收灰塵，長期保持高透光?？估詮?qiáng)，切割時無灰塵，耐磨性好，具有紫外線保護(hù)作用。UV減粘膜(失粘膜)和OGS抗酸膜的主要基膜材料。
目前，一些國內(nèi)制造商已經(jīng)開始發(fā)展，但其效果并不令市場滿意。因此，大多數(shù)減粘膜仍然停留在PET基材上！PO基材是用于晶片研磨、切割、精細(xì)電子零件加工和各種材料微小零件加工切割的功能基膜。目前是各大中小涂料廠UV減粘膜、抗酸膜等理想選材。
UV減粘膜和抗酸膜用于以下行業(yè)：
1.適用于硅晶片、鋼化玻璃、電子元件T元器件、MLCC定位切割片式電容器，PLC芯片、晶圓等半導(dǎo)體的切割制造工藝保護(hù)，EMC或陶瓷基板LED燈珠，QFN，PCB，半導(dǎo)體芯片密封Package，PLC元器件、光纖頭元器件、晶圓 LDE芯片切割，石英玻璃， 手機(jī)攝像頭玻璃， 濾光片切割QFN和DFN切割等；
二、半導(dǎo)體晶片表面加工；電子光電工業(yè)零部件生產(chǎn)加工工程；LCD和TP觸摸面板玻璃減薄，研磨拋光；LED切割拋光；藍(lán)寶石基板薄磨工藝；晶片研磨、切割、各種硅片、封裝基板、陶瓷、玻璃、水晶精細(xì)電子零件等；
3、PO適用于抗酸膜ITO玻璃、COVER LENS玻璃蓋板化學(xué)強(qiáng)化酸蝕刻工藝保護(hù)；
4.其他工藝需要高粘度、緊密貼合保護(hù)，后期需要撕裂保護(hù)。
UV保護(hù)膜的特點(diǎn)：
1.切割時附著力高，照射UV當(dāng)粘度很低時，晶片不會飛走，也不會留下膠水。因為有很強(qiáng)的粘附力來固定晶圓，即使是小芯片也不會移位或剝離，可以真正切割。
2：照射UV快速響應(yīng)時間，有效提高工作效率，通過紫外線照射可控制瞬時粘附力，即使是大芯片也可以用較輕的力撿起產(chǎn)品。
3.在切割過程中保持晶粒完整(無晶粒流失)，減少切割過程中的坍塌。
4.確保晶粒在正常傳輸過程中不會位移或脫落，水不會滲入晶粒和膠帶。
5、Uv固化晶圓切割保護(hù)膜的特點(diǎn)是uv固化前有普通保護(hù)膜無法比擬的超高粘度(可達(dá)到驚人效果1500g-2000g gf/25mm） 在經(jīng)過uv紫外線照射后，粘度可變?yōu)槌驼扯?5g-20g。粘性克數(shù)甚*更低。
6.另一個特點(diǎn)是還有另一個特點(diǎn)PO基材具有很強(qiáng)的(橫向和縱向)延展性（elongation可達(dá)300 ，600。
來源：東
2019年膜涂工藝研討會
時間：2019年5月30日
地點(diǎn)：東莞
人群:設(shè)備制造商、材料制造商、涂料廠等上下游企業(yè)
探討話題
1、 常用的薄膜表/界面微結(jié)構(gòu)及性能分析討論涂料產(chǎn)品的質(zhì)量；
①常用的薄膜基材表面分析；
②常用涂布液的分析介紹；
③膜/涂層液界面分析
2、 設(shè)備和工藝浸潤(潤濕)涂層液和膜界面
①介紹涂裝設(shè)備的分類和特點(diǎn)；
②對各種涂裝工藝的疑難及案例分析。
3、 涂層改性研究膜表/界面
①膜涂改性介紹；
②膜涂改性分析；
③膜涂改性工藝；
④膜涂改性發(fā)展方向。
咨詢：莫
